[发明专利]光学部件的制造方法以及光学部件有效
| 申请号： | 201280023954.3 | 申请日： | 2012-04-04 |
| 公开（公告）号： | CN103582830A | 公开（公告）日： | 2014-02-12 |
| 发明（设计）人： | 藁科祯久;铃木智史;笠森浩平 | 申请（专利权）人： | 浜松光子学株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/10 | 分类号： | G02B5/10;B81C1/00;G02B26/02 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 杨琦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明所涉及的光学部件的制造方法是一种制造光透性光学部件（12）的方法，所包含的工序为：第1蚀刻工序，蚀刻板状构件的硅区域（11）并形成凹部；热氧化工序，使凹部的内侧面热氧化并形成氧化硅膜（14）；氮化膜形成工序，形成覆盖氧化硅膜（14）的氮化硅膜（16）。由此，就能够实现在相对于基板面成大倾斜（或者接近于垂直）的半透过反射面上可以均匀地形成氧化硅膜的光学部件的制作方法、以及由该方法进行制作的光学部件。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 部件 制造 方法 以及 | ||
【主权项】：
一种光学部件的制造方法，其特征在于：包含：第1蚀刻工序，对包含硅区域的板状构件的所述硅区域实施蚀刻并形成凹部；热氧化工序，使所述凹部的内侧面热氧化并形成氧化硅膜；氮化膜形成工序，形成覆盖所述氧化硅膜的氮化硅膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浜松光子学株式会社，未经浜松光子学株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201280023954.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：光学扫描装置、图像显示设备和光学扫描方法
- 下一篇：确定波场速度的指示
