[发明专利]跑道形状的磁控溅射用磁场产生装置有效
| 申请号： | 201280025831.3 | 申请日： | 2012-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN103562433A | 公开（公告）日： | 2014-02-05 |
| 发明（设计）人： | 栗山义彦 | 申请（专利权）人： | 日立金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 雒运朴 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种具有直线部及拐角部的跑道形状的磁控溅射用磁场产生装置，其具备：中央磁极构件；包围中央磁极构件的外周磁极构件；以磁极沿一方向定向的方式设置在中央磁极构件与外周磁极构件之间的多个永久磁铁；对上述构件进行支承的非磁性基体构件，其中，至少在直线部配置的永久磁铁以中央磁极构件侧变低的方式倾斜，至少在直线部配置的永久磁铁的外侧的磁极面下部与外周磁极构件不抵接，且中央磁极构件与靶的距离和外周磁极构件与靶的距离相等，由此使靶表面产生均匀的磁场。 | ||
| 搜索关键词： | 跑道 形状 磁控溅射 磁场 产生 装置 | ||
【主权项】：
一种用于使靶表面产生磁场的跑道形状的磁控溅射用磁场产生装置，其特征在于，(a)具备：中央磁极构件；包围所述中央磁极构件的外周磁极构件；以一方的磁极与所述中央磁极构件对置而另一方的磁极与所述外周磁极构件对置的方式，设置在所述中央磁极构件与所述外周磁极构件之间的多个永久磁铁；对所述中央磁极构件、所述外周磁极构件及所述永久磁铁进行支承的非磁性基体构件，(b)所述跑道形状具有直线部及拐角部，(c)至少在所述直线部配置的各永久磁铁具有以与所述中央磁极构件对置的磁极面从所述靶远离的方式倾斜的磁化方向，(d)至少在所述直线部配置的各永久磁铁的与所述外周磁极构件对置的磁极面在接近所述基体构件的一侧具有与所述外周磁极构件不抵接的部分，(e)所述中央磁极构件与所述靶的距离和所述外周磁极构件与所述靶的距离相等。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日立金属株式会社，未经日立金属株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201280025831.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
