[发明专利]光刻设备、可编程图案形成装置以及光刻方法有效
| 申请号： | 201280027886.8 | 申请日： | 2012-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN103597404B | 公开（公告）日： | 2017-04-26 |
| 发明（设计）人： | 彼得·德亚格尔;V·班尼恩;约翰内斯·昂伍李;L·史蒂文斯;S·伍伊斯特尔;N·伊欧萨德 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/29 | 分类号： | G02F1/29;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在一个实施例中，公开一种光刻设备，包括调制器，配置成将衬底的曝光区域以根据期望的图案调制的多个束曝光；和投影系统，配置成将经过调制的束投影到衬底上。调制器包括偏转器，用以相对于曝光区域使所述多个束移位。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 可编程 图案 形成 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻设备，包括：衬底保持装置，构造成保持和移动衬底；调制器，配置成根据期望的图案调制多个束，所述调制器包括电光偏转器的阵列，所述电光偏转器的阵列基本上垂直于所述光刻设备的光轴延伸；和投影系统，配置成接收经过调制的束和将其朝向可移动的衬底投影，其中所述电光偏转器的阵列中的电光偏转器包括电光材料的棱镜，所述棱镜被放置成不垂直于棱镜的入射表面上的入射束。
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