[发明专利]CVD反应器的进气机构

摘要

本发明涉及一种CVD反应器的进气机构(2)，其具有进气壳体，进气壳体具有至少一个可由第一输送管(21)输送第一处理气体的第一气体分配腔(5)，第一气体分配腔(5)具有多个分别设计为管件的气体管道(8)，气体管道(8)伸入安置于进气壳体壁(10)前方的排气板(14)的第一开口(16)内，并且第一处理气体通过气体管道(8)进入设置于排气板(14)下方的处理室内，并且进气机构(2)还具有设置在进气壳体壁(10)和排气板(14)之间的间隔空间(20)。设置有与进气壳体壁(10)邻接的冷却剂室(7)，冷却剂可被送入冷却剂室(7)内，用于冷却进气壳体壁(10)以及与被冷却的进气壳体壁(10)传热连接的气体管道(8)的管口(8')，其中，排气板(14)与进气壳体壁(10)之间不传热，从而使得受到来自于处理室(22)的热辐射的排气板(14)相比于伸入到排气板(14)的开口(16)内的管口(8')被更大程度地加热。

主权项

一种CVD反应器的进气机构(2)，其具有进气壳体，所述进气壳体具有至少一个可由第一输送管(21)输送第一处理气体的第一气体分配腔(5)，所述第一气体分配腔(5)具有多个分别设计为管件的气体管道(8)，所述气体管道(8)伸入安置于进气壳体壁(10)前方的排气板(14)的第一开口(16)内，并且所述第一处理气体通过所述气体管道(8)进入设置于所述排气板(14)下方的处理室内，并且所述进气机构(2)还具有设置在所述进气壳体壁(10)和所述排气板(14)之间的间隔空间(20)，其特征在于，设置有与所述进气壳体壁(10)邻接的冷却剂室(7)，冷却剂可被送入所述冷却剂室(7)内，用于冷却所述进气壳体壁(10)以及与被冷却的进气壳体壁(10)传热连接的气体管道(8)的管口(8')，其中，所述排气板(14)与所述进气壳体壁(10)之间不传热，从而使得受到来自于所述处理室(22)的热辐射的所述排气板(14)相比于伸入到所述排气板(14)的开口(16)内的管口(8')被更大程度地加热。