[发明专利]基底纳米模具和使用基底纳米模具来制造纳米模具的方法在审
| 申请号： | 201280035227.9 | 申请日： | 2012-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN103649794A | 公开（公告）日： | 2014-03-19 |
| 发明（设计）人： | 金镇秀;刘庆钟;李领宰;李俊 | 申请（专利权）人： | LG伊诺特有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 许向彤;陈英俊 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 提供了一种基底纳米模具和使用基底纳米模具来制造纳米模具的方法。所述基底纳米模具包括：形成有至少一个第一栅格图案的模具栅格层；以及，在所述第一栅格图案上形成的至少一个第二栅格图案。通过在基底纳米模具上涂敷和固化树脂来制造纳米模具，使得可以降低用于制造纳米模具所需的制造成本，并且，可以制造具有改善的长宽比的纳米模具，同时改善工艺效率。 | ||
| 搜索关键词： | 基底 纳米 模具 使用 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种基底纳米模具，包括：形成有至少一个第一栅格图案的模具栅格层；以及在所述第一栅格图案上形成的至少一个第二栅格图案。
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