[发明专利]用于使涂层沉积在装置上的改进的沉积技术

摘要

本发明描述了一种适合于使涂层沉积在装置上的沉积方法。该方法特别适合于使自组装单层（SAM）涂层沉积在微机电结构（MEMS）上。该方法采用载气，以在装置被定位在其中的加工室中形成沉积蒸气，其中沉积蒸气包括控制量的蒸气前体材料和蒸气反应物材料。即使当反应物材料和前体材料的体积比率显著高于之前在现有技术中采用的那些比率时，采用所描述的技术避免了装置的微粒污染的有问题的影响。蒸气前体材料可以属于与包括水的相关蒸气反应物材料一起为MEMS提供抗静态阻力涂层的类型。

主权项

一种适合于在装置结构上沉积涂层的沉积方法，所述方法包括：提供将在其内沉积所述涂层的加工室；向所述加工室提供一种或多种前体材料的蒸气；以及向所述加工室提供一种或多种反应物材料的蒸气；其中在所述加工室内形成沉积蒸气，所述沉积蒸气包括的所述反应物材料和所述前体材料的体积比率大于10:1。