[发明专利]薄膜晶体管及其制造方法、显示装置、图像传感器、X射线传感器以及X射线数字摄影装置有效

专利信息
申请号: 201280038731.4 申请日: 2012-07-09
公开(公告)号: CN103733345A 公开(公告)日: 2014-04-16
发明(设计)人: 小野雅司;高田真宏;田中淳;铃木真之 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;G02F1/1368;H01L21/336;H01L21/363;H01L27/144;H01L27/146;H01L51/50;H05B33/14
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 臧建明
地址: 日本东京港区*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种薄膜晶体管,晶体管具有:栅极电极;与栅极电极相接触的栅极绝缘膜;氧化物半导体层,包含第1区域和第2区域,且经由栅极绝缘膜而与栅极电极对向配置,第1区域以In(a)Ga(b)Zn(c)O(d)(0<a≤37/60,3a/7-3/14≤b≤91a/74-17/40,其中b>0,0<c≤3/5,a+b+c=1,d>0)表示,第2区域以In(p)Ga(q)Zn(r)O(s)(q/(p+q)>0.250,p>0,q>0,r>0,s>0)表示,且与第1区域相比位于相对于栅极电极较远的位置;源极电极和漏极电极,彼此分离配置,经由氧化物半导体层可以导通。
搜索关键词: 薄膜晶体管 及其 制造 方法 显示装置 图像传感器 射线 传感器 以及 数字 摄影 装置
【主权项】:
一种薄膜晶体管,包括:栅极电极;栅极绝缘膜,其与所述栅极电极相接触;氧化物半导体层,包括第1区域和第2区域,且经由所述栅极绝缘膜而与所述栅极电极对向配置,所述第1区域以In(a)Ga(b)Zn(c)O(d)(0<a≤37/60,3a/7‑3/14≤b≤91a/74‑17/40,其中b>0,0<c≤3/5,a+b+c=1,d>0)表示,所述第2区域以In(p)Ga(q)Zn(r)O(s)(q/(p+q)>0.250,p>0,q>0,r>0,s>0)表示,且与所述第1区域相比位于相对于所述栅极电极较远的位置;以及源极电极和漏极电极,彼此分离配置,且经由所述氧化物半导体层可以导通。
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