[发明专利]晶锭生长设备和制造晶锭的方法有效

专利信息
申请号: 201280039532.5 申请日: 2012-08-10
公开(公告)号: CN103732807A 公开(公告)日: 2014-04-16
发明(设计)人: 安镇佑;金奉佑;崔日洙;金度延 申请(专利权)人: LG矽得荣株式会社
主分类号: C30B15/04 分类号: C30B15/04;C30B15/32;C30B29/06;H01L21/02
代理公司: 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 代理人: 张颖玲;胡春光
地址: 韩国庆*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明提供一种晶锭生长设备,所述晶锭生长装置包括:含有硅熔体的坩埚;提拉装置,所述提拉装置提拉从所述硅熔体生长的硅单晶晶锭;以及掺杂剂供给单元,所述掺杂剂供给单元与所述提拉装置相邻布置,并且用于在所述晶锭的生长期间供给掺杂剂。可以通过所述掺杂剂供给单元以高于晶锭的浓度的浓度掺杂颈部。因此,可以降低位错的传播速度,并且可以缩短传播长度。
搜索关键词: 生长 设备 制造 方法
【主权项】:
一种晶锭生长设备,包括:含有硅熔体的坩埚;提拉装置,所述提拉装置提拉从所述硅熔体生长的硅单晶晶锭;以及掺杂剂供给单元,所述掺杂剂供给单元与所述提拉装置相邻布置,并且用于在所述晶锭的生长期间供给掺杂剂。
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