[发明专利]用于重质试样的试样粘度和流量控制及其x-射线分析应用在审
| 申请号： | 201280039704.9 | 申请日： | 2012-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN103733054A | 公开（公告）日： | 2014-04-16 |
| 发明（设计）人： | G·艾伦;S·沙卡肖巴尔;S·谢尔伊安 | 申请（专利权）人： | X射线光学系统公司 |
| 主分类号： | G01N23/223 | 分类号： | G01N23/223 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 张文达 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种x-射线分析系统，其包括：具有x-射线源的x-射线引擎，该引擎用于产生x-射线激励光束，x-射线激励光束被引导到x-射线分析聚焦区域；试样室，其把试样流输送到x-射线分析聚焦区域中，分析聚焦区域设置在试样分析区域内，该试样分析区域被限定在该室内；x-射线探测路径，其收集辅助x-射线并且把该x-射线引导至探测器；x-射线透明隔挡件，其位于室的壁上，x-射线通过该室；以及阻塞结构，其局部地阻塞试样分析区域，用于在试样分析区域中和隔挡件上产生试样流湍动。该阻塞结构绕x-射线分析聚焦区域和/或试样分析区域的中心轴线可以不对称地设置；以及可以是圆形销。加热元件可以被用来加热试样流以改善流动。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 试样 粘度 流量 控制 及其 射线 分析 应用 | ||
【主权项】：
一种x‑射线分析试样处理装置，其包括：试样室，其限定出试样分析区域，其中在该试样分析区域内，试样流在x‑射线引擎的x‑射线分析聚焦区域附近进行流动；x‑射线透明隔挡件，其位于所述试样室的壁内，用于允许x‑射线来自试样分析区域和/或到达试样分析区域；阻塞结构，其局部地阻塞试样分析区域，用于在试样分析区域中和隔挡件上产生试样流湍动。
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