[发明专利]用于处理气流的设备有效

专利信息
申请号: 201280040000.3 申请日: 2012-07-11
公开(公告)号: CN103764261B 公开(公告)日: 2017-04-12
发明(设计)人: C.J.P.克莱门茨;S.A.沃罗宁;J.L.比德;D.麦克格拉思 申请(专利权)人: 爱德华兹有限公司
主分类号: B01D53/32 分类号: B01D53/32;B03C3/74;B08B1/00;H05H1/34
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 崔幼平,杨炯
地址: 英国西萨*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 在用于处理气流(12)的设备(10)中,等离子生成器(14)包括用于使源气体通电以通过高电压的应用来生成等离子焰(16)的电极(22)。入口(24)允许气流(12)进入设备(10)中且将其引导到所生成的等离子(16)中。刮擦器(26)适于从退出电极(22)的第一位置往复移动到第二位置,以用于刮擦电极(22)的表面(28)以除去累积在表面(28)上的固体沉积物。
搜索关键词: 用于 处理 气流 设备
【主权项】:
一种用于处理气流的设备,包括用于生成等离子的等离子生成器,以用于处理所述等离子生成器下游的反应室中的气流,其中在所述等离子生成器与所述反应器之间的区包括易受固体沉积物的累积影响的至少一个表面,且其中刮擦器适于从退出所述至少一个表面的第一位置移动到第二位置,以用于刮擦所述至少一个表面以除去累积的固体沉积物,所述等离子生成器包括至少一个电极,以用于使源气体通电以生成等离子,所述刮擦器具有通孔,所述通孔在所述刮擦器的第二位置中与所述电极对准以允许所述等离子焰延伸穿过所述通孔。
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