[发明专利]用于处理气流的设备

摘要

本发明涉及用于处理气流（12）的设备（10）。等离子生成器（14）生成等离子焰（16）。第一入口（18）将气流输送进入设备。反应室（20）位于在其中处理气体的等离子生成器的下游。第二入口（22）接收液体（32）进入设备，用于在反应室的内表面（26）上建立液体堰（24），以用于防止固体沉积物在内表面上积累。流体导向器（28）具有外环形表面（30），其用于在内表面上引导液体，以及内环形表面（34），其与外表面流体连通，使得液体从外表面流到内表面以防止在内表面上的沉积。

主权项

一种用于处理气流的设备，所述设备包括用于生成等离子焰的等离子生成器，第一入口，其用于将气流输送进入所述设备，以及等离子生成器下游的反应室，其中气流由生成的等离子焰处理，第二入口，其用于接收液体进入所述设备，用于在反应室的内表面上建立液体堰，以用于防止固体沉积物从内表面上的等离子体处理积累，以及流体导向器，其具有外环形表面，所述外环形表面与第二入口流体连通并且相对于内表面定位用于在内表面上引导液体，以及内环形表面，所述内环形表面与外环形表面流体连通，使得液体可以在内环形表面上流动以防止在内环形表面上的沉积。