[发明专利]产生低发射率层系统的方法和装置无效
| 申请号： | 201280040499.8 | 申请日： | 2012-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN103987674A | 公开（公告）日： | 2014-08-13 |
| 发明（设计）人： | 哈拉尔德·格罗斯;乌多·维尔科芒 | 申请（专利权）人： | 冯·阿德纳有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36;C03C23/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 梁晓广;关兆辉 |
| 地址： | 德国德*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于产生低发射率层系统的方法，包括以下步骤：利用沉积，在基板的至少一侧上形成至少一个低发射率层；并且随后利用电磁辐射来对沉积低发射率层进行短暂回火，避免对基板进行直接加热，并且本发明还涉及一种用于执行该方法的装置，其解决了改进低发射率层系统的光学和热特性的问题，而没有对整个基板进行高成本的回火，同时维持低e涂覆的基板的可加工性。 | ||
| 搜索关键词： | 产生 发射 系统 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种用于产生低发射率层系统的方法，所述方法包括以下步骤：利用沉积，在基板的至少一侧上形成至少一个透明金属IR反射层，其在下文中被称作低发射率层；以及随后利用电磁辐射对至少一个沉积层进行短暂回火，同时避免直接加热基板，其特征在于，对至少一个低发射率层进行短暂地回火，其中通过具有至少一个闪光灯，优选地多个闪光灯的闪光灯设备，利用至少一个闪光脉冲，来实现所述电磁辐射。
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