[发明专利]辐射源和光刻设备无效
| 申请号： | 201280040912.0 | 申请日： | 2012-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN103748968A | 公开（公告）日： | 2014-04-23 |
| 发明（设计）人： | C·华格纳;E·鲁普斯特拉 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | H05G2/00 | 分类号： | H05G2/00;G03F7/20;H01S3/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 辐射源，包括：喷嘴，配置成沿朝向等离子体形成位置的轨迹引导燃料液滴（400）的束流；和激光器，配置成引导激光辐射至等离子体形成位置以在等离子体形成位置将燃料液滴转化为等离子体。激光器包括放大器（310、320）和光学元件（500），该光学元件配置成限定辐射通过放大器的发散束路径。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射源 光刻 设备 | ||
【主权项】：
一种辐射源，包括：喷嘴，配置成沿朝向等离子体形成位置的轨迹引导燃料液滴的束流；和激光器，配置成将激光辐射，例如具有大约9μm至大约11μm之间的波长的辐射，引导至等离子体形成位置以在等离子体形成位置处将燃料液滴转化为等离子体，其中，激光器包括放大器和光学元件，所述光学元件配置成限定通过放大器的辐射的发散束路径。
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