[发明专利]辐射源在审
| 申请号： | 201280040931.3 | 申请日： | 2012-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN103748969A | 公开（公告）日： | 2014-04-23 |
| 发明（设计）人： | A·凯姆鹏;E·鲁普斯特拉;C·伦特罗普;D·德格拉夫;F·古贝尔斯;G·R·海斯;H·J·范德维尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | H05G2/00 | 分类号： | H05G2/00;G03F7/20;B41J2/16 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 辐射源，具有：喷嘴，喷嘴配置成沿朝向等离子体形成位置的轨迹引导燃料液滴的束流；和激光器，配置成将激光辐射引导至等离子体形成位置以在使用中生成用于生成辐射的等离子体。喷嘴具有内表面，所述内表面配置成防止在用以形成燃料液滴的燃料中存在的污染被沉积在该内表面上。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射源 | ||
【主权项】：
一种辐射源，包括：喷嘴，配置成沿朝向等离子体形成位置的轨迹引导燃料液滴的束流；和激光器，配置成将激光辐射引导至等离子体形成位置处的燃料液滴以在使用中生成用于生成辐射的等离子体；其中，喷嘴具有内表面，所述内表面配置成防止在用以形成燃料液滴的燃料中存在的污染物被沉积在所述内表面上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201280040931.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
