[发明专利]显影构件及其生产方法和电子照相图像形成设备有效

专利信息
申请号: 201280040934.7 申请日: 2012-08-02
公开(公告)号: CN103765323A 公开(公告)日: 2014-04-30
发明(设计)人: 草场隆;漆原圣平;杉山辽;宇野真史 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03G15/08 分类号: G03G15/08
代理公司: 北京魏启学律师事务所 11398 代理人: 魏启学
地址: 日本东京都大*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供较少发生压缩永久变形的显影构件。所述显影构件包括基体;设置于所述基体上的弹性层;和设置于所述弹性层上的覆盖层,其中所述弹性层包含含有下列(A)至(D)的混合物的固化物:(A)在一分子中含有键合至硅原子的两个以上的乙烯基、并且在25℃下的粘度为10Pa·s-100Pa·s的有机聚硅氧烷;(B)由SiO4/2构成单元和R1R2R3SiO1/2构成单元组成、并且在一分子中含有键合至硅原子的两个以上的乙烯基的有机聚硅氧烷,其中R1、R2和R3各自为甲基或乙烯基;(C)在一分子中含有键合至硅原子的两个以上的氢原子的有机氢聚硅氧烷;和(D)炭黑。
搜索关键词: 显影 构件 及其 生产 方法 电子 照相 图像 形成 设备
【主权项】:
一种显影构件,其包括:基体;设置于所述基体上的弹性层;和设置于所述弹性层上的被覆层,其中,所述弹性层包含含有下列(A)至(D)的混合物的固化物:(A)在一分子中具有键合至硅原子的两个以上的乙烯基、并且在25℃下的粘度为10Pa·s以上且100Pa·s以下的有机聚硅氧烷;(B)包含SiO4/2单元和R1R2R3SiO1/2单元的构成单元、并且在一分子中具有键合至硅原子的两个以上的乙烯基的有机聚硅氧烷,其中R1、R2和R3各自表示甲基和乙烯基之一;(C)在一分子中具有键合至硅原子的两个以上的氢原子的有机氢聚硅氧烷;和(D)炭黑。
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