[发明专利]图案相位差膜的制造方法、图案相位差膜及图像显示装置有效
| 申请号： | 201280041223.1 | 申请日： | 2012-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN103748489A | 公开（公告）日： | 2014-04-23 |
| 发明（设计）人： | 西村裕行;中尾吉秀;川岛朋也;山田一树;鹿岛启二 | 申请（专利权）人： | 大日本印刷株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02F1/13;G02F1/13363;G02F1/1337 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 余刚;吴孟秋 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明针对适用于被动式三维图像显示的图案相位差膜，提供能够高精度地简单且大量制作的图案相位差膜的制造方法。与曝光处理的区域宽度相比使缝隙宽度更窄来制作供曝光处理的掩模（16）。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 相位差 制造 方法 图像 显示装置 | ||
【主权项】：
一种图案相位差膜的制造方法，在输送尺寸长的透明膜材料的同时依次进行处理从而制作图案相位差膜，所述图案相位差膜的制造方法的特征在于，包括：光取向材料膜制作工序，在所述透明膜材料上制作光取向材料膜；曝光工序，通过使用掩模的所述光取向材料膜的曝光处理，采用光取向方法制作取向膜；以及相位差层制作工序，在所述取向膜上制作基于对应于右眼用透过光的、赋予相位差的右眼用区域和对应于左眼用透过光的、赋予相位差的左眼用区域而成的相位差层，所述曝光工序是在第一次曝光处理中，使用所述掩模选择性地对所述光取向材料膜进行曝光处理之后，在第二次曝光处理中，向整面照射光，对在所述第一次曝光处理中未曝光的区域进行曝光处理，从而，使对应于所述右眼用区域或左眼用区域的部位的所述光取向材料膜进行取向后，使对应于所述左眼用区域或右眼用区域的部位的所述光取向材料膜进行取向来制作所述取向膜，所述掩模是制作为与供第一次曝光处理的区域宽度相比，对应的缝隙的宽度更窄的。
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