[发明专利]用于产生均匀等离子体的具有分段束收集器的电子束等离子体源无效
申请号: | 201280041425.6 | 申请日: | 2012-10-15 |
公开(公告)号: | CN103766003A | 公开(公告)日: | 2014-04-30 |
发明(设计)人: | L·多尔夫;S·拉乌夫;K·S·柯林斯;N·米斯拉;J·D·卡达希;G·勒雷;K·拉马斯瓦米 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | H05H1/34 | 分类号: | H05H1/34;H05H1/46;H01L21/3065 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陆嘉 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 一种在工作件处理腔室中通过电子束产生等离子体的等离子体反应器,该等离子体反应器具有电子束源及分段束收集器,该分段束收集器是剖面式的以促进电子束产生的等离子体中的均匀性。 | ||
搜索关键词: | 用于 产生 均匀 等离子体 具有 分段 收集 电子束 | ||
【主权项】:
一种用于处理工作件的等离子体反应器,所述等离子体反应器包含:工作件处理腔室,所述工作件处理腔室具有处理腔室外壳及在所述处理腔室中的工作件支撑基座,所述处理腔室外壳包含顶板和侧壁及在所述侧壁中的电子束开口,所述工作件支撑基座具有工作件支撑表面,所述工作件支撑表面面向所述顶板并界定所述工作件支撑表面及所述顶板之间的工作件处理区域,所述电子束开口面向所述工作件处理区域;电子束源腔室,所述电子束源腔室包含通向所述工作件处理腔室的所述电子束开口的电子束源腔室外壳;及束收集器,所述束收集器在所述腔室中与所述电子束开口相对的所述腔室的一侧上,所述电子束开口及所述束收集器界定在所述电子束开口及所述束收集器之间沿第一轴的电子束路径,所述束收集器包含金属收集器阵列及绝缘间隔物阵列,所述金属收集器阵列及所述绝缘间隔物阵列沿与所述第一轴垂直的第二轴分布,所述金属收集器通过各个所述绝缘间隔物彼此隔开。
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