[发明专利]碳化钙颗粒、碳化钙颗粒制造方法及碳化钙颗粒制造系统有效
申请号: | 201280041501.3 | 申请日: | 2012-02-07 |
公开(公告)号: | CN103764559A | 公开(公告)日: | 2014-04-30 |
发明(设计)人: | 谷村恭一;镰本隼平;窪野孝治;大森博昭;长崎俊一 | 申请(专利权)人: | 电气化学工业株式会社 |
主分类号: | C01B31/32 | 分类号: | C01B31/32;C07C11/24 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 刘宗杰;巩克栋 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种碳化钙颗粒制造方法,其在干式乙炔发生中,不会有增加乙炔聚合等副反应、或对收率造成不良影响的情况,并且,不会导致由反应温度升高造成的安全上的风险的增大。制造粒径4mm以上者为5wt%以下并且粒径0.15mm以下者为20wt%以下的碳化钙颗粒的方法包括:工序A,用粉碎机粉碎碳化钙;工序B,将用粉碎机粉碎了的碳化钙用网眼为4mm的筛子筛选;以及工序C,将残留于所述筛子上的碳化钙再次导入所述粉碎机。所述工序A~C在非活性气体气氛中进行。按照使所述工序A中导入粉碎机的碳化钙量a与所述工序B中通过了筛子的碳化钙量b为(a-b)/b=1~2.5的方式,控制所述粉碎机的粉碎粒度。 | ||
搜索关键词: | 碳化 颗粒 制造 方法 系统 | ||
【主权项】:
一种碳化钙颗粒,其粒径4mm以上者为5wt%以下并且粒径0.15mm以下者为20wt%以下。
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