[发明专利]高硬度的含氮化硅剥离层有效
申请号: | 201280042094.8 | 申请日: | 2012-08-02 |
公开(公告)号: | CN103827351A | 公开(公告)日: | 2014-05-28 |
发明(设计)人: | 克里希纳·于贝尔;大卫·W·沃泽 | 申请(专利权)人: | ESK陶瓷有限及两合公司 |
主分类号: | C23C18/12 | 分类号: | C23C18/12;C03C17/22;C30B11/00;C30B15/10;C30B35/00 |
代理公司: | 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 | 代理人: | 李少丹;许伟群 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及一种模塑制品,其包括具有牢固粘附的剥离层的基底,其中所述剥离层包含92-98重量%氮化硅(Si3N4)以及2-8重量%二氧化硅(SiO2),并且其中所述剥离层具有≤8重量%的总氧含量和根据DIN EN ISO 6506-1的至少10HB 2.5/3的硬度。本发明还涉及一种用于制备此类模塑制品的方法、一种用于在此类方法中使用的涂层悬浮液以及根据本发明的模塑制品在腐蚀性非铁金属熔体领域中的用途。 | ||
搜索关键词: | 硬度 氮化 剥离 | ||
【主权项】:
模塑制品,包括具有牢固粘附的剥离层的基底,其中所述剥离层包含92‑98重量%氮化硅(Si3N4)以及2‑8重量%二氧化硅(SiO2),并且其中所述剥离层具有≤8重量%的总氧含量和根据DIN EN ISO6506‑1的至少10HB2.5/3的硬度。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
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