[发明专利]用于将光束耦合到箔中的方法和设备有效
| 申请号： | 201280043175.X | 申请日： | 2012-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN103782159B | 公开（公告）日： | 2017-01-18 |
| 发明（设计）人： | J·J·H·B·施莱彭;J·H·M·雷正 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/77 | 分类号： | G01N21/77;G01N21/64 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人： | 舒雄文,蹇炜 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及其中将光束（L）耦合至透明组件中，例如箔（110）中，的方法和光学设备（150）。通过将光束（L）散光聚焦至箔（110）的矩形或椭圆形入口窗口（W）上来实现入耦合，其中，光束（L）的焦线（Fx）沿入口窗口（W）的延伸轴（x）取向。优选地，光束（L）的第二焦线（Fy）布置于感兴趣的区域（112）以下的透明组件（110）内部。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光束 耦合 中的 方法 设备 | ||
【主权项】：
一种用于将光束(L)耦合至具有沿轴(x)延伸的入口窗口(W)的透明组件(110)中的方法，所述方法包括通过散光透镜(151)将所述光束(L)散光聚焦至所述入口窗口(W)上，使得：‑光束(L)的焦线(Fx)沿所述入口窗口(W)的x轴延伸，‑光束(L)的第二焦线(Fy)沿y轴延伸并且设置在所述透明组件(110)内部，其中所述y轴正交于所述x轴，‑所述光束(L)在所述透明组件(110)内部至少全内反射一次，其中，所述透明组件(110)包括具有探测区域(112)的表面(111)，其特征在于，第二焦线(Fy)设置在所述探测区域(112)处。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于皇家飞利浦有限公司，未经皇家飞利浦有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201280043175.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
