[发明专利]蒸镀掩膜、蒸镀掩膜的制造方法及薄膜图案形成方法有效
| 申请号： | 201280044893.9 | 申请日： | 2012-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN103797149B | 公开（公告）日： | 2017-05-24 |
| 发明（设计）人： | 杉本重人;梶山康一;水村通伸;工藤修二;木村江梨子;哈尼·马赫·阿齐兹;梶山佳敬 | 申请（专利权）人： | 株式会社V技术 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/50;H05B33/10 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所31210 | 代理人： | 肖华 |
| 地址： | 日本国神奈*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明是用于在基板上蒸镀形成一定形状的薄膜图案的蒸镀掩膜，该蒸镀掩膜构成为具备透射可见光的树脂制的膜，该树脂制的膜对应于预先在所述基板上确定的所述薄膜图案的形成区域，形成了与该薄膜图案的形状尺寸相同的贯通的开口图案。 | ||
| 搜索关键词： | 蒸镀掩膜 制造 方法 薄膜 图案 形成 | ||
【主权项】：
一种蒸镀掩膜，其是用于在基板上蒸镀形成多个薄膜图案的蒸镀掩膜，其特征在于，该蒸镀掩膜构成为具备膜，该膜与相对于预先设置在所述基板上的多个图案而确定的多个薄膜图案形成区域相对应地，形成了与所述薄膜图案的形状尺寸相同的贯通的多个开口图案，所述膜是透射可见光的树脂制的膜，为了与所述基板上的所述图案的位置对应地形成所述开口图案，所述可见光能够透过所述膜对所述图案的位置进行检测。
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