[发明专利]新颖的含锰纳米结构

摘要

在此披露了包含一个聚合物框架的纳米结构，该聚合物框架包含至少五个孪位双膦酸酯基，其中这些孪位双膦酸酯基彼此独立地以-R³R⁴C(P=O(OR¹)(OR²))₂形式并入，其中R¹和R²独立地选自下组，该组由一个负电荷、H、烷基及芳基组成，并且其中R³和R⁴中至少一个是连接到该聚合物框架的一个基团，其条件是当R³和R⁴中仅一个是此类连接的基团时，R³和R⁴中的另一个是一个能够连接到该聚合物框架的基团，或此类基团的残基，或选自由H、OH、OR⁵及R⁵组成的组，其中R⁵是一个低级烷基。该聚合物框架可以包含锰离子。还披露了用于制造这些含锰纳米结构的方法、包含这些含锰纳米结构的组合物及这些含锰纳米结构例如作为MRI造影剂的用途。

主权项

一种纳米结构，包含了并入一个聚合物框架中的锰离子，该聚合物框架包含至少五个孪位双膦酸酯基，其中这些孪位双膦酸酯基彼此独立地呈以下形式并入‑R³R⁴C(P=O(OR¹)(OR²))₂其中：R¹和R²独立地选自下组，该组由一个负电荷、H、烷基及芳基组成，并且R³和R⁴中至少一个是连接到该聚合物框架，或形成该聚合物框架的一部分的一个基团，其条件是，当R³和R⁴中仅一个是此类连接的基团时，R³和R⁴中的另一个是一个能够连接到该聚合物框架的基团，或此类基团的残基，或选自由H、OH、OR⁵及R⁵组成的组，其中R⁵是一个低级烷基。