[发明专利]具有芴结构的树脂及光刻用下层膜形成材料

摘要

本发明提供树脂中的碳浓度较高、耐热性较高、溶剂溶解性也较高、能够适用湿式工艺的具有新型的芴结构的树脂及其制造方法，以及对于形成耐热性和蚀刻耐性优异的新型的抗蚀剂下层膜作为多层抗蚀剂用下层膜而言有用的下层膜形成材料以及使用该材料的图案形成方法等。本发明的树脂具有下述通式(1)所示的结构。通式(1)中，R₃和R₄各自独立地是苯环或萘环，芴骨架或(二)苯并芴骨架的桥头位的碳原子与其它的芳香环的碳原子键合，芴骨架或(二)苯并芴骨架的芳香环的碳原子与其它的芴骨架或(二)苯并芴骨架的桥头位的碳原子键合。

主权项

1.一种树脂，其具有下述通式(1)所示的结构，通式(1)中，R₃和R₄各自独立地是苯环或萘环，芴骨架或(二)苯并芴骨架的桥头位的碳原子与其它的芳香环的碳原子键合，芴骨架或(二)苯并芴骨架的芳香环的碳原子与其它的芴骨架或(二)苯并芴骨架的桥头位的碳原子键合。