[发明专利]在非传导表面上形成传导图像的方法在审
| 申请号： | 201280051161.2 | 申请日： | 2012-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN104025724A | 公开（公告）日： | 2014-09-03 |
| 发明（设计）人： | W.维斯曼 | 申请（专利权）人： | 全球第一电路技术公司 |
| 主分类号： | H05K3/18 | 分类号： | H05K3/18;H05K3/10;H01L21/768;H05K3/38 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 徐予红;王忠忠 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及用于在非传导或电介质表面上形成浮凸传导图像的方法，方法包括在衬底的表面上放置金属配位络合物，使表面暴露在电磁辐射下，还原暴露的络合物，去除未暴露的金属络合物，留下元素金属图像，干燥表面，以及随后使用高传导材料对结果元素金属图像进行电镀。 | ||
| 搜索关键词： | 传导 表面上 形成 图像 方法 | ||
【主权项】：
一种在表面上形成传导层的方法，包括：活化非传导衬底表面的至少一部分；应用磁场到所述表面；在所述表面的活化部分的至少一部分上沉积金属配位络合物；消除所述磁场；将所述金属配位络合物暴露在电磁辐射下；将所述金属配位络合物还原成元素金属；从所述表面去除未还原的金属配位络合物；干燥所述表面；以及将传导材料沉积到所述表面上。
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