[发明专利]纳米复合正型光敏性组合物及其用途无效

专利信息
申请号: 201280052881.0 申请日: 2012-10-31
公开(公告)号: CN103907058A 公开(公告)日: 2014-07-02
发明(设计)人: 卢炳宏;陈春伟;S·梅耶 申请(专利权)人: AZ电子材料美国公司
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/027;G03F7/038;G03F7/40;G03F7/039
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 宓霞
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及适合于作为正型光致抗蚀剂成像式曝光和显影的正型光敏性组合物,该组合物包含正型光致抗蚀剂组合物和具有等于或大于10纳米的平均粒子尺寸的无机颗粒材料,其中由所述组合物形成的光致抗蚀剂涂膜的厚度优选小于5微米。所述正型光致抗蚀剂组合物可以选自(1)包含如下组分的组合物:(i)具有酸不稳定基团的成膜树脂,和(ii)光酸产生剂,或(2)包含如下组分的组合物:(i)成膜酚醛清漆树脂,和(ii)光活性化合物,或(3)包含如下组分的组合物:(i)成膜树脂,(ii)光酸产生剂和(iii)溶解抑制剂。本发明还涉及使用所述新型光敏性组合物形成图像的方法。
搜索关键词: 纳米 复合 光敏 组合 及其 用途
【主权项】:
正型光敏性组合物,其包含正型光致抗蚀剂组合物和具有等于或小于100纳米的平均粒子直径的无机胶体颗粒材料。
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