[发明专利]溅射靶材及其制造方法有效
| 申请号： | 201280054142.5 | 申请日： | 2012-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN103917687A | 公开（公告）日： | 2014-07-09 |
| 发明（设计）人： | 冈本研;荒堀忠久;佐藤彰繁;宮下幸夫;草野英二;坂本宗明 | 申请（专利权）人： | 飞罗得陶瓷股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C04B35/053 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种溅射靶材，其使用了以质量％计纯度为99.99％以上或进一步纯度为99.995％以上、相对密度98％以上且平均晶粒直径为8μm以下的氧化镁烧结体。该溅射靶材的平均晶粒直径为5μm以下、进一步平均晶粒直径为2μm以下是优选的。若使用该溅射靶材，则能够得到具有优异的耐绝缘性和均质性的溅射膜。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种溅射靶材，其特征在于，使用了以质量％计纯度为99.99％以上、相对密度超过98％、且平均晶粒直径为8μm以下的氧化镁烧结体。
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