[发明专利]光刻设备及器件制造方法

摘要

一种光刻设备(100)包括衬底台(WT)，构造以保持衬底(W)；投影系统(PS)，配置成通过开口(301)投影图案化辐射束并且将图案化辐射束投影到衬底的目标部分上；和导管(305、306)，具有在开口中的出口(306)。所述导管配置成将气体传输至开口。光刻设备包括温度控制设备(330)，其由控制系统控制并且配置成控制在投影系统和衬底之间的空间中的气体的温度，尤其是冷却所述气体。

主权项

一种光刻设备，包括：衬底台，构造成保持衬底；投影系统，配置成通过开口投影图案化辐射束并且将所述图案化辐射束投影到衬底的目标部分上；导管，配置成将气体传输至所述开口并且将在所述开口外的气体的气流提供至所述投影系统和衬底台之间的空间；其中，所述光刻设备设置有温度控制设备，所述温度控制设备设置在投影系统和衬底台之间的空间中，所述温度控制设备配置成控制在所述气体通过所述开口之后在所述空间中的气体的温度，并且其中，所述开口通过开口限定壁的倾斜的内表面来形成。