[发明专利]X射线探测装置有效

专利信息
申请号: 201280056214.X 申请日: 2012-11-08
公开(公告)号: CN103975253B 公开(公告)日: 2018-07-10
发明(设计)人: 盖瑞·吉普逊 申请(专利权)人: IBEX创新有限责任公司
主分类号: G01T1/20 分类号: G01T1/20;G01T1/29
代理公司: 深圳市博锐专利事务所 44275 代理人: 张明
地址: 英国塞奇菲*** 国省代码: 英国;GB
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摘要: 一种设有X射线探测器的X射线成像装置和和放置的被测物质。所述X射线探测器包括配制成将入射X射线波长光子转换并发出可见光波长光子的部件、放置被测物质的位置、X射线源、配置成干扰X射线能量谱的结构,所述构件均位于公共轴上,其中,X射线源设置成将X射线能量谱沿公共轴对准发射撞击在所述部件上,所述结构配置成干扰X射线能量谱;其中,所述结构位于X射线源和所述部件之间,向放置被测物质的位置一边并与公共轴线相交;其中,所述结构包括至少三个相邻区,每个区与直接相邻区不同并配置成对X射线能量谱产生不同的干扰。
搜索关键词: 公共轴 光子 可见光波长 公共轴线 结构配置 直接相邻 相邻区 成对 配置 入射 相交 对准 发射 转换
【主权项】:
1.一种X射线成像及材料鉴别装置,该装置包括X射线探测器,所述X射线探测器包括闪烁体形式的均匀厚度的单个部件(3),所述闪烁体被配置成将入射X射线波长光子转换并发出可见波长光子的部件,放置被测物质的位置(2),X射线源(1),以及配置成干扰X射线能量谱的结构,所述部件、放置被测物质的位置、X射线源及结构均在公共轴(A‑A)上,其中,X射线源(1)设置成将X射线能量谱沿公共轴(A‑A)对准发射撞击在放置于所述位置(2)上的被测物质;所述结构被设置成干扰X射线能量谱;其中,所述结构位于X射线源(1)和所述闪烁体(3)之间,位于与所述公共轴(A‑A)相交的放置被测物质的位置(2)的任意一侧;其中,所述结构包括至少三个相邻区(4a、4b、4c、5a、5b、5c、6a、6b、6c),所述三个相邻区互不相同且具有不同的X射线能量谱干扰特性;并且,其中所述结构的相邻区之间的差异包括在相邻区中的所述结构的材料的厚度,所述结构安装在所述装置中,使得所述结构的不同区同时干扰相同的X射线能量谱,其中所述结构的同一区中的所述结构的材料的厚度是均匀的。
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