[发明专利]UV固化的优化无效
申请号: | 201280058245.9 | 申请日: | 2012-10-25 |
公开(公告)号: | CN103959435A | 公开(公告)日: | 2014-07-30 |
发明(设计)人: | 艾德·S·拉马克里斯南 | 申请(专利权)人: | 尤尼皮克塞尔显示器有限公司 |
主分类号: | H01L21/027 | 分类号: | H01L21/027;H01L21/324 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 戚传江;穆德骏 |
地址: | 美国德*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种制备柔印版使得柔印版适于印刷高分辨率图案的系统和方法。该方法包括控制柔印版的固化条件,从而控制所述柔印版的特性,譬如底层厚度、图案横截面几何形状、印刷特征在印刷过程期间的重复性以及柔印版在印刷过程期间的耐久性。 | ||
搜索关键词: | uv 固化 优化 | ||
【主权项】:
一种使柔印坯件图案化的方法,包括:固化柔印坯件的第一表面,其中,所述第一表面包括背衬,其中,固化所述第一表面在所述第一表面上形成底层,并且其中,固化包括发射具有在250nm‑600nm之间的多个波长和从0.3J/cm2到1.0J/cm2的固化剂量的紫外(UV)辐射;将掩模设置在柔印坯件的第二表面上,其中,所述第二表面与所述第一表面相反;固化所述第二表面以在所述第二表面上形成图案,其中固化所述第二表面包括在5J/cm2到25J/cm2之间的剂量的UV光;其中,形成所述图案包括形成多条线,其中,所述多条线中的每条的横截面是正方形、矩形、三角形和梯形中的一种,其中,多个凹谷形成在所述多条线中的每组线之间,并且其中,凹谷深度在5‑20微米之间。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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