[发明专利]具有双吸收层的干涉调制器

摘要

本发明提供涉及机电显示装置的系统、方法和设备。在一个方面中，一种模拟干涉调制器(1600)包含反射显示像素，所述反射显示像素具有反射体(1014)和可移动第一吸收层(1008)，所述可移动第一吸收层(1008)可定位于距所述反射体距离d1处，所述第一吸收层和所述反射体界定其之间的第一间隙(1004)。设备还包含安置在距所述第一吸收层距离d2处的第二吸收层(1006)，所述第一吸收层安置于所述第二吸收层与所述反射体之间，所述第二吸收层和所述第一吸收层界定其之间的第二间隙(1002)。另外，所述反射体、所述第一吸收层和所述第二吸收层中的至少两者为可移动的以同步地增加或减小所述第一间隙和所述第二间隙的厚度尺寸。

主权项

一种机电显示设备，其包括：反射显示像素，其包含反射体；第一部分透射型吸收层，其距所述反射体而安置，所述第一部分透射型吸收层和所述反射体界定其之间的第一间隙，所述第一间隙具有为距离d1的厚度尺寸；第二部分透射型吸收层，其距所述第一部分透射型吸收层而安置以使得所述第一部分透射型吸收层处于所述第二部分透射型吸收层与所述反射体之间，所述第二部分透射型吸收层和所述第一部分透射型吸收层界定其之间的第二间隙，所述第二间隙具有为距离d2的厚度尺寸；且其中所述反射体、所述第一部分透射型吸收层和所述第二部分透射型吸收层中的至少两者为可移动的以增加或减小所述第一间隙和所述第二间隙的所述厚度尺寸，其中所述第一部分透射型吸收层和所述第二部分透射型吸收层的厚度的总和介于3纳米与12纳米之间。