[发明专利]光扩散性转印材料、光扩散层的形成方法、有机电致发光装置和有机电致发光装置的制造方法无效
| 申请号： | 201280059224.9 | 申请日： | 2012-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN103959107A | 公开（公告）日： | 2014-07-30 |
| 发明（设计）人： | 诸桥佳奈;飞世学 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/02 | 分类号： | G02B5/02;H01L51/50;H05B33/02;H05B33/10 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 丁香兰;庞东成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种能够形成光扩散层的光扩散性转印材料，该光扩散层具有优异的转印性、并且能够提高有机电致发光装置的光提取效率；本发明提供一种光扩散性转印材料，该光扩散性转印材料在支撑体上具有含有至少一种光扩散颗粒和至少一种高折射率无机填料的有机膜，该有机膜中的上述光扩散颗粒的含有率为25体积％以上50％体积以下。 | ||
| 搜索关键词： | 扩散 性转印 材料 形成 方法 有机 电致发光 装置 制造 | ||
【主权项】：
一种光扩散性转印材料，该光扩散性转印材料在支撑体上具有含有至少一种光扩散颗粒和至少一种高折射率无机填料的有机膜，该有机膜中的所述光扩散颗粒的含有率N[体积％]为25～50的范围，该有机膜的厚度T[μm]满足T≥150/N。
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