[发明专利]气体阻隔膜有效
| 申请号： | 201280061539.7 | 申请日： | 2012-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN103998230A | 公开（公告）日： | 2014-08-20 |
| 发明（设计）人： | 西尾昌二 | 申请（专利权）人： | 柯尼卡美能达株式会社 |
| 主分类号： | B32B9/00 | 分类号： | B32B9/00;B32B27/00;B32B27/16 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 贾成功 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种气体阻隔膜(10)，其具备实施真空紫外光照射处理并层叠于基材(1)上的气体阻隔层(2)和保护层(3)，其中，形成为满足如下的规定：气体阻隔层(2)在其至少一部分中具有SiOxNy的组成，满足0.1≤x/(x+y)≤0.9的条件，同时保护层(3)的膜密度相对于气体阻隔层(2)的膜密度之比为0.2以上且0.75以下。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 阻隔 | ||
【主权项】：
一种气体阻隔膜，其特征在于，其为在基材上具备至少1层气体阻隔层、和与所述气体阻隔层邻接的保护层的气体阻隔膜，所述保护层含有有机硅，所述气体阻隔层在其至少一部分中具有SiOxNy的组成，满足0.1≤x/(x+y)≤0.9的条件，所述保护层被实施了照射波长为300nm以下的紫外光的改性处理，所述保护层的膜密度相对于所述气体阻隔层的膜密度之比为0.2以上且0.75以下。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于柯尼卡美能达株式会社，未经柯尼卡美能达株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201280061539.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：多用式登山杖
- 下一篇：一种转台式高效茶块压缩机
