[发明专利]溅射靶的喷涂再生有效
| 申请号： | 201280062209.X | 申请日： | 2012-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN104040020A | 公开（公告）日： | 2014-09-10 |
| 发明（设计）人： | 克里斯托弗·米沙鲁克;威廉·洛文塔尔;加利·罗扎克;马克·阿布阿夫;帕特里克·霍根;史蒂文·A·米勒 | 申请（专利权）人： | H.C.施塔克公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C24/08 |
| 代理公司： | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人： | 郭广迅 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 在各个实施方案中，将用过的溅射靶通过在靶材喷涂沉积期间维持喷涂沉积枪(320)与靶的凹陷的表面外形(330)之间的大的倾斜角(300)来至少部分地翻新。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 喷涂 再生 | ||
【主权项】：
一种翻新具有经侵蚀区域的经侵蚀的溅射靶的方法，所述经侵蚀区域具有呈非平面的和限定了最大表面深度的凹陷的表面外形，所述经侵蚀的溅射靶包含靶材，所述方法包括：将喷涂沉积枪放置在所述经侵蚀区域之上，并在第一个位置处开始靶材粒子射流的喷涂沉积，以部分地填充所述经侵蚀区域，所述喷涂沉积枪与直接在其之下的经侵蚀区域之间的倾斜角为约45°或更大；以及在(i)相对于所述经侵蚀的溅射靶来平移所述喷涂沉积枪，(ii)将所述倾斜角变成选自约45°至约90°的范围的多个不同的值，和(iii)在所述经侵蚀的溅射靶之上的每个位置处均基于所述位置处的经侵蚀区域的深度来控制所述靶材粒子的沉积速率的同时，通过喷涂沉积所述靶材粒子来基本上填充所述经侵蚀区域。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于H.C.施塔克公司，未经H.C.施塔克公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201280062209.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：稳定性好的射频读写装置
- 下一篇：一种智能扫描笔
- 同类专利
- 专利分类
