[发明专利]反射器阵列光学装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201280062399.5 申请日: 2012-10-16
公开(公告)号: CN103998972A 公开(公告)日: 2014-08-20
发明(设计)人: 片野邦彦;杉山贵;北村雄树;前川聪 申请(专利权)人: 斯坦雷电气株式会社;独立行政法人情报通信研究机构
主分类号: G02B27/22 分类号: G02B27/22;G02B5/08;G02B5/136;G02B17/06
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 吕俊刚;刘久亮
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种包括被平行地布置在相同平面上的多个二面角反射器阵列光学元件的反射器阵列光学装置。所述二面角反射器阵列光学元件各自包括基板和形成在所述基板上的多个二面角反射器。这些反射器被形成为这样的方式,即,它们分别与基板的主表面垂直,并且具有正交地相交的至少两个正交侧面,并且这些正交侧面的内角的方向被对齐。
搜索关键词: 反射 阵列 光学 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
一种使位于一个主面侧的被观察物的实像形成到另一主面侧的空间中的反射器阵列光学装置,包括被并排地布置在同一平面上的多个二面角反射器阵列光学元件,所述多个二面角反射器阵列光学元件中的每一个都包括:基板;以及多个二面角反射器,每个二面角反射器都具有至少两个正交侧面,所述正交侧面与所述基板的主表面垂直并且彼此正交,并且所述多个二面角反射器与所述基板形成为一体,使得所述正交侧面的内角的朝向彼此对齐,其中所述多个二面角反射器阵列光学元件被配置为,所述基板的端面被接合在一起,使得所述多个二面角反射器的所述正交侧面的交线与所述基板的法线平行。
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