[发明专利]由去污装置和至少一个预型件构成的组件、制造无菌容器的设备和方法在审
| 申请号： | 201280063183.0 | 申请日： | 2012-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN104010667A | 公开（公告）日： | 2014-08-27 |
| 发明（设计）人： | C·贝勒克;G·弗约莱 | 申请（专利权）人： | 西德尔合作公司 |
| 主分类号： | A61L2/10 | 分类号： | A61L2/10 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 李丽 |
| 地址： | 法国奥克*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种组件(1)，所述组件由至少一个预型件(12)和去污装置(10)构成，所述去污装置通过由半导体类型器件(22)所发射的至少一种紫外线辐射对预型件(12)内部进行辐照去污；本发明还涉及包括至少一个去污装置(10)的无菌容器(120)制造设备(100)和利用被去污的预型件(12)制造无菌容器(120)的一种制造方法。 | ||
| 搜索关键词： | 去污 装置 至少 一个 预型件 构成 组件 制造 无菌 容器 设备 方法 | ||
【主权项】：
组件(1)，所述组件包括用以制造容器的至少一个热塑性材料预型件(12)和对预型件(12)内部进行去污的去污装置(10)，其中，所述预型件(12)包括颈部(44)，所述颈部通过由底部(42)封闭的主体(40)轴向地延伸，所述颈部界定进出所述预型件(12)内部的开口(18)，其特征在于，所述去污装置(10)包括至少一个支承机构(20)，所述支承机构承载辐照去污部件(22)，所述辐照去污部件由半导体类型的器件构成，所述器件用于通过开口(18)被引入到所述预型件(12)内部，以在待去污的预型件(12)的内部选择性地发射至少一种紫外线辐射。
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