[发明专利]基底处理装置、器件制造系统、以及器件制造方法有效
| 申请号： | 201280063563.4 | 申请日： | 2012-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN104011597A | 公开（公告）日： | 2014-08-27 |
| 发明（设计）人： | 加藤正纪 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B13/24;G02B13/22;G02B17/08 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 汤在彦 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 基底处理装置(1011)，具备：第1支承构件(1021)，以在照明区域(IR)与投影区域(PA)中的一方区域中沿着以既定曲率弯曲成圆筒面状的第1面(p1001)的方式支承第1物体(M)与第2物体(P)中的一方；以及第2支承构件(1022)，以在照明区域与投影区域中的另一方区域中既定第2面(p1002)的方式支承第1物体与第2物体中的另一方。投影光学系统(PL)具备偏向构件，该偏向构件以从照明区域至投影区域的成像光束的主光线中第1面与投影光学系统之间的主光线朝向第1面的径方向中与第2面为非垂直的径方向的方式使成像光束传播。 | ||
| 搜索关键词： | 基底 处理 装置 器件 制造 系统 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种基底处理装置，具备投影光学系统，该投影光学系统将来自配置于照明光的照明区域的第1物体的图案的光束投射于配置第2物体的投影区域，其具备：第1支承构件，以在所述照明区域与所述投影区域中的一方区域中沿着以既定曲率弯曲成圆筒面状的第1面的方式支承所述第1物体与第2物体中的一方；以及第2支承构件，以在所述照明区域与所述投影区域中的另一方区域中沿着既定第2面的方式支承所述第1物体与第2物体中的另一方；所述投影光学系统具备偏向构件，该偏向构件是以从所述照明区域至所述投影区域的成像光束的主光线中所述第1面与所述投影光学系统间的主光线朝向所述第1面的径方向中与所述第2面为非垂直的径方向的方式使所述成像光束传播。
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