[发明专利]用于制备石墨烯纳米带的低聚亚苯基单体和聚合物前体有效

专利信息
申请号: 201280064361.1 申请日: 2012-10-24
公开(公告)号: CN104039743A 公开(公告)日: 2014-09-10
发明(设计)人: S·伊娃诺维茨;M·G·施瓦布;冯新良;K·米伦 申请(专利权)人: 巴斯夫欧洲公司;马克思—普朗克科学促进协会公司
主分类号: C07C15/14 分类号: C07C15/14;C07C15/12;C07C15/20;C07C15/28;C07C15/30;C07C25/18;C07C309/66;C07C245/20;C01B31/04;C08G61/10
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 肖威;刘金辉
地址: 德国路*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 提供了用于合成石墨烯纳米带制备用聚合物前体的低聚亚苯基单体、所述聚合物前体及其制备方法,以及由所述聚合物前体和所述单体制备石墨烯纳米带的方法。
搜索关键词: 用于 制备 石墨 纳米 低聚亚 苯基 单体 聚合物
【主权项】:
通式A、B、C、D、E和F的低聚亚苯基单体:其中Ar选自:其中Ar选自:其中Ar选自:其中Ar为:其中Ar为:其中Ar为:其中在各式A、B、C、D、E和F中:X,Y为卤素、三氟甲磺酸酯基或重氮基;R1,R2,R3各自独立地为H、卤素、‑OH、‑NH2、‑CN、‑NO2;直链或支化的饱和或不饱和C1‑C40烃基,其可被卤素(F、Cl、Br、I)、‑OH、‑NH2、‑CN和/或‑NO2取代1‑5次,且其中一个或多个CH2基团可被‑O‑、‑S‑、‑C(O)O‑、‑O‑C(O)‑、‑C(O)‑、‑NH‑或‑NR‑代替,其中R为任选取代的C1‑C40烃基;或任选取代的芳基、烷芳基或烷氧基芳基。
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