[发明专利]显示装置及用于形成光转向特征和显示元件的双侧工艺无效
| 申请号： | 201280065788.3 | 申请日： | 2012-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN104024915A | 公开（公告）日： | 2014-09-03 |
| 发明（设计）人： | 笹川照夫 | 申请（专利权）人： | 高通MEMS科技公司 |
| 主分类号： | G02B26/00 | 分类号： | G02B26/00;G02B6/00 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 孙宝成 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供用于通过使用光波导分散光而提供照明的系统、方法和设备。在一方面中，一种照明系统具备具有第一侧和与所述第一侧对置的第二侧的衬底。所述衬底可为光学透射型且形成所述光波导的用于分散光的部分。所述衬底的所述第一侧是使用第一处理技术来处理。处理所述第一侧包含在所述第一侧上形成光转向特征及在所述光转向特征之上形成保护层。所述第二侧是使用第二处理技术来处理以形成显示元件，同时所述保护层保护所述第一侧免受损坏。所述第一处理技术和所述第二处理技术可使用相同成套工具来执行。除保护所述第一侧之外，所述钝化层可充当光学包层和/或钝化层。 | ||
| 搜索关键词： | 显示装置 用于 形成 转向 特征 显示 元件 工艺 | ||
【主权项】：
一种制造显示装置的方法，所述方法包括：提供衬底，所述衬底具有第一侧和与所述第一侧对置的第二侧；使用第一处理技术处理所述第一侧，其中处理所述第一侧包含：在所述衬底的所述第一侧上形成多个光转向特征，以及在所述光转向特征之上形成第一保护层；以及随后使用第二处理技术处理所述第二侧，其中处理所述第二侧包含：在所述衬底的所述第二侧上形成显示元件阵列。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于高通MEMS科技公司，未经高通MEMS科技公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201280065788.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
