[发明专利]光刻设备和装置制造方法

摘要

光刻或曝光设备(1)具有投影系统(12、14、18)和控制器(500)。投影系统包括固定部件(12)和运动部件(14、18)。投影系统被构造成投影多个辐射光束到目标上的多个位置上。该位置根据图案选择。控制器被构造成控制设备以第一模式或第二模式操作。在第一模式，投影系统输送第一量的能量到所选位置。在第二模式，投影系统输送第二量的能量到所选位置。第二量的能量大于第一量的能量。

主权项

一种曝光设备，包括：投影系统，其包括固定部件和运动部件，能够投影多个辐射光束到目标上的根据图案选择的位置上；以及控制器，能够控制设备以第一模式或第二模式操作；其中在第一模式，投影系统输送第一量的能量到所选位置，并且在第二模式，投影系统输送大于第一量的能量的第二量的能量到所选位置；以及其中，在第一模式，投影系统以第一速率投影多个辐射光束到所选位置上，并在第二模式，投影系统以第二速率投影多个辐射光束到所选位置上，第二速率低于或等于第一速率。