[发明专利]制造无光泽铜沉积的方法有效
| 申请号： | 201280068192.9 | 申请日： | 2012-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN104080955A | 公开（公告）日： | 2014-10-01 |
| 发明（设计）人： | 斯特凡·克雷奇默;飞利浦·哈特曼;贝恩德·罗夫斯 | 申请（专利权）人： | 德国艾托特克公司 |
| 主分类号： | C25D3/38 | 分类号： | C25D3/38;C25D5/10 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 林斯凯 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及沉积无光泽铜涂层的方法，其中从不含包含二价硫的有机化合物的水性铜电解质沉积第一铜层。然后从包含第一和第二水溶性含硫添加剂的水性铜电解质将第二铜层沉积到所述第一铜层上，其中所述第一水溶性含硫化合物是烷基磺酸衍生物，且所述第二水溶性含硫添加剂是芳香族磺酸衍生物。所述方法提供具有均匀且可调节的无光泽外观的铜层用于装饰性应用。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 无光泽 沉积 方法 | ||
【主权项】：
一种沉积无光泽铜涂层的方法，其按以下顺序包含以下步骤a、提供衬底，b、从第一水性电解质将第一铜层沉积到所述衬底上，所述第一水性电解质包含铜离子源、至少一种酸和至少一种聚醚化合物，其中所述第一电解质不含包含二价硫的有机化合物和c、从第二水性电解质将第二铜层沉积到所述第一铜层上，所述第二水性电解质包含铜离子源、至少一种酸、选自由烷基磺酸衍生物组成的群组的第一水溶性含硫添加剂和选自由芳香族磺酸衍生物组成的群组的第二水溶性含硫添加剂其中在步骤b和c期间将电流密度施加到所述衬底。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于德国艾托特克公司，未经德国艾托特克公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201280068192.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
