[发明专利]等离子处理装置和等离子处理方法无效
| 申请号： | 201280068769.6 | 申请日： | 2012-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN104081883A | 公开（公告）日： | 2014-10-01 |
| 发明（设计）人： | 平山昌树 | 申请（专利权）人： | 国立大学法人东北大学 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46;C23C16/509;H01L21/205 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种等离子处理装置，针对大尺寸的基板，能够在改善用VHF频带那样的高频激励的等离子的密度的均匀性的同时实现小型化及降低制造成本。等离子处理装置具有：波导路构件(401)，其用于形成波导路(WG)；第一电极(450A)和第二电极(450B)，其配置为面对等离子形成空间，与波导路构件(401)协作来形成波导路(WG)，并且与波导路构件(401)电连接；同轴管(225)，其用于向该波导路内供给电磁能；电介质板(420)，其配置于波导路(WG)内，并沿着长度方向(A)延伸；以及第一导电体(430A)和第二导电体(430B)，其在波导路(WG)内相对于电介质板(420)配置于波导路的宽度方向(B)上的至少一侧，且沿着电介质板(420)延伸，并且分别与第一电极和第二电极电连接。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种等离子处理装置，其特征在于，具有：波导路构件，其用于形成与长度方向正交的方向上的截面呈矩形的波导路；电场形成用的第一电极和第二电极，其配置为面对等离子形成空间，与上述波导路构件协作来形成上述波导路，并且与该波导路构件电连接；传送路，其从上述长度方向上的规定的馈电位置向该波导路内供给电磁能；电介质板，其配置于上述波导路内，并沿着上述长度方向延伸；以及至少一个导电体，其在上述波导路内相对于上述电介质板配置在该波导路的宽度方向上的至少一侧，且沿着上述电介质板延伸，并且与上述第一电极和第二电极中的一者电连接。
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