[发明专利]金属氧化膜的制造方法和金属氧化膜有效

专利信息
申请号: 201280069377.1 申请日: 2012-10-24
公开(公告)号: CN104105817A 公开(公告)日: 2014-10-15
发明(设计)人: 白幡孝洋;织田容征;平松孝浩 申请(专利权)人: 东芝三菱电机产业系统株式会社
主分类号: C23C18/12 分类号: C23C18/12
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 蒋亭
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的目的在于,提供一种能够以低成本制作膜特性(低电阻)良好的金属氧化膜的金属氧化膜的制造方法。并且,在本发明中,具备:(A)通过将含锌溶液(5)雾化,并将该雾化后的溶液(5)在非真空下对基板(1)进行喷雾,从而在基板(1)上使金属氧化膜(10)成膜的工序;和(B)通过对金属氧化膜(10)照射紫外线(13),从而使金属氧化膜(10)的电阻降低的工序。此外,工序(B)具有:(B-1)根据金属氧化膜(10)的膜厚确定将要照射的紫外线(13)的波长的工序、和(B-2)向金属氧化膜(10)照射具有工序(B-1)中确定的波长的紫外线(13)的工序。
搜索关键词: 金属 氧化 制造 方法
【主权项】:
一种金属氧化膜的制造方法,其特征在于,具备:(A)通过将含锌溶液(5)雾化,并将该雾化后的溶液在非真空下对基板(1)进行喷雾,从而在所述基板上使金属氧化膜(10)成膜的工序;和(B)通过对所述金属氧化膜照射紫外线(13),从而使所述金属氧化膜的电阻降低的工序;所述工序(B)具有:(B-1)根据所述金属氧化膜的膜厚确定将要照射的所述紫外线的波长的工序、和(B-2)向所述金属氧化膜照射具有所述工序(B-1)中确定的波长的所述紫外线的工序。
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