[发明专利]金属氧化膜的制造方法和金属氧化膜有效
申请号: | 201280069377.1 | 申请日: | 2012-10-24 |
公开(公告)号: | CN104105817A | 公开(公告)日: | 2014-10-15 |
发明(设计)人: | 白幡孝洋;织田容征;平松孝浩 | 申请(专利权)人: | 东芝三菱电机产业系统株式会社 |
主分类号: | C23C18/12 | 分类号: | C23C18/12 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 蒋亭 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的目的在于,提供一种能够以低成本制作膜特性(低电阻)良好的金属氧化膜的金属氧化膜的制造方法。并且,在本发明中,具备:(A)通过将含锌溶液(5)雾化,并将该雾化后的溶液(5)在非真空下对基板(1)进行喷雾,从而在基板(1)上使金属氧化膜(10)成膜的工序;和(B)通过对金属氧化膜(10)照射紫外线(13),从而使金属氧化膜(10)的电阻降低的工序。此外,工序(B)具有:(B-1)根据金属氧化膜(10)的膜厚确定将要照射的紫外线(13)的波长的工序、和(B-2)向金属氧化膜(10)照射具有工序(B-1)中确定的波长的紫外线(13)的工序。 | ||
搜索关键词: | 金属 氧化 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种金属氧化膜的制造方法,其特征在于,具备:(A)通过将含锌溶液(5)雾化,并将该雾化后的溶液在非真空下对基板(1)进行喷雾,从而在所述基板上使金属氧化膜(10)成膜的工序;和(B)通过对所述金属氧化膜照射紫外线(13),从而使所述金属氧化膜的电阻降低的工序;所述工序(B)具有:(B-1)根据所述金属氧化膜的膜厚确定将要照射的所述紫外线的波长的工序、和(B-2)向所述金属氧化膜照射具有所述工序(B-1)中确定的波长的所述紫外线的工序。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
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