[发明专利]补偿微光刻投射曝光系统的通道缺陷的设备及方法有效
| 申请号： | 201280071975.2 | 申请日： | 2012-03-29 |
| 公开（公告）号： | CN104220931B | 公开（公告）日： | 2016-10-12 |
| 发明（设计）人： | I.萨恩杰;F.施莱塞纳 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邱军 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种微光刻投射曝光设备的照明系统，其包含：(a)多个通道，每个通道引导部分光束且至少一个通道包含至少一个缺陷；及(b)至少一个光学元件，其布置在具有该至少一个缺陷的该至少一个通道中，该光学元件适配于至少部分补偿该通道的部分光束的至少一个缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 补偿 微光 投射 曝光 系统 通道 缺陷 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种微光刻投射曝光设备的照明系统，包含：a.多个通道，每个通道引导部分光束，至少一个通道包含至少一个缺陷；b.至少一个光学元件，布置在具有所述至少一个缺陷的所述至少一个通道中，所述光学元件适配于至少部分补偿所述通道的部分光束的至少一个缺陷；以及c.其中，所述至少一个光学元件包含应变引致双折射，其至少部分补偿所述部分光束的偏振变化，以及其中，所述应变引致双折射由在所述光学元件的光学无关区中引入局部持续修改的至少一个布置导致，其中，所述局部持续修改配置为在所述至少一个光学元件中产生所述应变引致双折射。
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