[发明专利]组合掩模

摘要

本发明提供一种使用组合蚀刻掩模的组合掩模的方法，所述组合蚀刻掩模包括材料层堆叠的顶层和在所述顶层上的次级掩模，以蚀刻所述堆叠的其他材料层。所述方法包括图案化在材料层堆叠的顶上的第一层，和在图案化第一层的顶上提供次级掩模。所述方法进一步包括使用组合掩模蚀刻来蚀刻包括在第一层之下的第二层的堆叠的其他材料层，和随后使用次级掩模作为蚀刻掩模来蚀刻第一层以及除第二层外的堆叠的其他材料层。

主权项

1.一种组合掩模的方法，所述方法包含按以下顺序的步骤：图案化材料层堆叠的第一层，所述第一层位于所述堆叠的顶部且具有相对于位于所述第一层之下的所述堆叠的第二层的互斥的选择性蚀刻阻力；在所述图案化第一层的顶上提供次级掩模；使用所述图案化第一层和所述次级掩模的组合作为组合蚀刻掩模来蚀刻包括所述第二层的所述堆叠的其他材料层；和使用所述次级掩模作为蚀刻掩模来蚀刻所述图案化第一层以及除所述第二层外的所述堆叠的所述其他材料层。