[其他]用于处理腔室的基板支撑件的处理套组环有效
申请号: | 201290001108.7 | 申请日: | 2012-10-15 |
公开(公告)号: | CN204206596U | 公开(公告)日: | 2015-03-11 |
发明(设计)人: | V·N·托多罗;S·巴纳;I·优素福;A·王;G·勒雷 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | H05H1/34 | 分类号: | H05H1/34;H05H1/46;H01L21/3065 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 胡林岭 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 兹提供用于处理腔室的基板支撑件的处理套组组件。在一些实施例中,一种处理套组环可包括:环形主体,该环形主体具有外缘、内缘、顶表面及底部,其中该外缘具有约12.473英寸至约12.479英寸的直径,且该内缘具有约11.726英寸至约11.728英寸的直径,而且其中该环形主体具有约0.116英寸至约0.118英寸的高度;以及多个凸部,该多个凸部位于该环形主体的该顶表面上,该多个凸部中的每一者对称地位于该环形主体周围。 | ||
搜索关键词: | 用于 处理 支撑 套组环 | ||
【主权项】:
一种用于处理腔室的基板支撑件的处理套组环,包含:环形主体,该环形主体具有外缘、内缘、顶表面及底部,其中该外缘具有约12.473英寸至约12.479英寸的直径,且该内缘具有约11.726英寸至约11.728英寸的直径,而且其中该环形主体具有约0.116英寸至约0.118英寸的厚度;以及多个凸部,该多个凸部位于该环形主体的该顶表面上,该多个凸部中的每一者对称地位于该环形主体周围。
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