[发明专利]双面光刻机及双面光刻方法

摘要

本发明公开了一种双面光刻机，在同一腔体中包括互为镜像对称的第一激光光路和第二激光光路，载片台为夹式结构，第一激光光路和第二激光光路分别用于对晶圆的正面和背面曝光。本发明还公开了一种双面光刻方法。本发明能够实现在同一腔体中进行双面露光，且双面曝光过程中，晶圆的X和Y方向的位置相同，仅需改变晶圆的Z方向的位置，从而能够避免X和Y方向的镜像误差并提高光刻的套刻精度，实现光刻工艺的精度改善。

主权项

一种双面光刻机，其特征在于，双面光刻机包括：一腔体；第一激光光路，设置于所述腔体的顶部并用于提供光源对晶圆的正面进行曝光；第二激光光路，设置于所述腔体的底部并用于提供光源对所述晶圆的背面进行曝光；载片台为夹式结构，用于放置所述晶圆并能使所述晶圆的正面和背面都同时露出；通过控制器的控制，所述载片台的位置能够在X、Y和Z三个方向上调节；所述第一激光光路和所述第二激光光路提供的光源波长相同，且所述第一激光光路和所述第二激光光路相对于所述载片台呈镜像对称关系，所述第一激光光路和所述第二激光光路之间通过一转换器进行联动控制。