[发明专利]LED芯片切割方法及其制备的LED芯片无效

专利信息
申请号: 201310004858.0 申请日: 2013-01-08
公开(公告)号: CN103022284A 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: 陈家洛;陈立人 申请(专利权)人: 聚灿光电科技(苏州)有限公司
主分类号: H01L33/00 分类号: H01L33/00;H01L21/78
代理公司: 苏州广正知识产权代理有限公司 32234 代理人: 张汉钦
地址: 215123 江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种基于侧壁腐蚀的LED芯片切割方法,LED晶圆经过正面激光划片、侧壁腐蚀后,按照正常的LED芯片制造流程完成芯片制造;晶圆减薄、背镀后进行背面激光隐形切割,控制隐形切割线位置使其与正面划片线错开;裂片时在应力诱导下,晶粒侧壁将出现一斜裂面,更有利于侧面出光,增加芯片的整体光通量而不影响芯片的外观和电性。进一步的还公开了一种根据以上所述的LED芯片切割方法所制备的LED芯片,LED芯片的边缘呈具有斜裂面的“ㄣ”形断面。半导体衬底GaN晶圆在经过芯片侧壁腐蚀工艺后,结合激光隐形切割制作出“ㄣ”形断面,从增加侧壁出光量的方面增加整个LED芯片的亮度。
搜索关键词: led 芯片 切割 方法 及其 制备
【主权项】:
一种LED芯片切割方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)提供具有GaN外延发光层的半导体衬底,在半导体衬底正面进行激光划片形成沟槽以分割晶粒,采用湿法腐蚀方法腐蚀激光烧蚀区域以在沟槽内形成粗化表面,在此基础上完成后续芯片制造;(2)将半导体衬底减薄、抛光之后再镀制背面反射镜;(3)在半导体衬底背面进行激光隐形切割,切割位置与半导体衬底正面的沟槽在水平方向上错开;(4)沿隐形切割位置将芯片劈裂开,此时沿半导体衬底正面的沟槽底部与半导体衬底背面的隐形切割位置之间裂开形成具有斜裂面的“ㄣ”形断面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于聚灿光电科技(苏州)有限公司,未经聚灿光电科技(苏州)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310004858.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top