[发明专利]基于氮化铜薄膜的一次写入型双面光盘及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201310005350.2 申请日: 2013-01-08
公开(公告)号: CN103117070A 公开(公告)日: 2013-05-22
发明(设计)人: 李兴鳌;赵晋阳;李晓峰;陈晃毓;潘聪;王志姣;杨涛;杨建平;黄维 申请(专利权)人: 南京邮电大学
主分类号: G11B7/241 分类号: G11B7/241;G11B7/26
代理公司: 江苏爱信律师事务所 32241 代理人: 唐小红
地址: 210003 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明是一种基于氮化铜薄膜的一次写入型双面光盘及其制造方法,该双面光盘主要分为五层,依次包括第一基板(1)、第一记录层(2)、吸收层(3)、第二记录层(4)和第二基板(5);第一基板(1)和第二基板(5)分别是光盘的第一层和第五层,第一记录层(2)和第二记录层(4)分别是光盘的第二层和第四层,吸收层(3)是光盘的第三层,它是吸收多余红外线的区域,将透过第一记录层(2)和第二记录层(4)的多余红外线吸收。本发明将氮化铜的这种低温热分解特性运用到光盘中,并且对光盘的结构进行改良,制作出全新且无毒的基于氮化铜的一次写入型双面光盘。
搜索关键词: 基于 氮化 薄膜 一次 写入 双面 光盘 及其 制造 方法
【主权项】:
一种基于氮化铜薄膜的一次写入型双面光盘,其特征在用于该双面光盘主要分为五层,依次包括第一基板(1)、第一记录层(2)、吸收层(3)、第二记录层(4)和第二基板(5);第一基板(1)和第二基板(5)分别是光盘的第一层和第五层,它们是光盘其它部分的载体,也是整个光盘的物理外壳;第一记录层(2)和第二记录层(4)分别是光盘的第二层和第四层,它们是烧录时刻录信号的地方,利用磁控溅射方法制备的氮化铜薄膜一次性光存储介质,由于烧录前后的反射率不同,读取不同长度的信号时,通过反射率的变化形成0与1信号,借以读取信息;吸收层(3)是光盘的第三层,它是吸收多余红外线的区域,将透过第一记录层(2)和第二记录层(4)的多余红外线吸收。
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