[发明专利]荧光X射线分析装置有效
| 申请号： | 201310005481.0 | 申请日： | 2013-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN103364424B | 公开（公告）日： | 2017-03-01 |
| 发明（设计）人： | 多田正市;谷向贤 | 申请（专利权）人： | 株式会社理学 |
| 主分类号： | G01N23/223 | 分类号： | G01N23/223 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所(普通合伙)11216 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种荧光X射线分析装置，其在采用液体试样溢流的试样容器的分析中，可快速地进行精度良好的分析。该装置包括试样容器(5)，该试样容器(5)将从下方注入的液体试样(S)从顶端(51)溢流，该试样容器内部的空间的水平截面伴随从规定深度朝向上方延伸而变宽；试样注入机构(7)，该试样注入机构将液体试样(S)注入到试样容器(5)中；X射线源(1)，该X射线源对注入到试样容器(5)中的液体试样(S)的顶面照射一次X射线(2)；检测机构(4)，该检测机构检测从液体试样(S)产生的二次X射线(3)；控制机构(8)，该控制机构控制试样注入机构(7)、X射线源(1)和检测机构(4)，使得当注入到上述试样容器(5)中的液体试样(S)从试样容器(5)溢流时，则停止注入，开始测定。 | ||
| 搜索关键词： | 荧光 射线 分析 装置 | ||
【主权项】：
一种荧光X射线分析装置，其包括：试样容器，该试样容器将从下方注入的液体试样从顶端溢流，该试样容器内部的空间的水平截面伴随从规定深度朝向上方延伸而变宽；试样注入机构，该试样注入机构将液体试样注入到上述试样容器中；X射线源，该X射线源对注入到上述试样容器中的液体试样的顶面照射一次X射线；检测机构，该检测机构检测从液体试样产生的二次X射线；控制机构，该控制机构控制上述试样注入机构、上述X射线源和上述检测机构，使得当注入到上述试样容器中的液体试样从上述试样容器溢流时，则停止注入，开始测定。
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