[发明专利]一种新型的紫外发光二极管结构无效

专利信息
申请号: 201310007371.8 申请日: 2013-01-09
公开(公告)号: CN103296156A 公开(公告)日: 2013-09-11
发明(设计)人: 赵志斌;曲轶;张晶 申请(专利权)人: 长春理工大学
主分类号: H01L33/02 分类号: H01L33/02;H01L33/14;H01L33/04
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 130022 吉林省长春市朝*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 新型的紫外发光二极管结构,涉及紫外发光二极管的外延结构设计制作领域。该领域中至今外延片质量很差。其晶格适配严重和大量载流子从活跃区泄漏到P型层中,导致发光二极管的效率低下。该发明中,采用蓝宝石C面为衬底,首先生长AlN缓冲层和P型层中采用超晶格结构明显地减少了晶格失配。在N型AlGaN层生长中调节其厚度和参杂浓度的参数,既能提供足够的载流子还能充分地允许电流通过。P型AlxGa1-xN电子阻挡层,调试找到Al材料组分的最佳比重可以有效地阻挡电子泄漏。以上两方面明显改善了外延片的质量,从而提高其效率。
搜索关键词: 一种 新型 紫外 发光二极管 结构
【主权项】:
一种新型紫外发光二极管结构,包括缓冲层,n型层,活跃区,p型电子阻挡层,p型层和p型接触层的设计。
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